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X 射線發(fā)射譜（X-ray Emission Spectroscopy, XES）是一種通過分析材料中X 射線發(fā)射過程中能量分布，深入研究物質電子結構和化學狀態(tài)的技術。由于具有高靈敏度和元素選擇性，XES廣泛應用于材料科學、化學及物理學等領域。在XES實驗中，常用的光譜儀類型包括von Hamos型和Johann型，分別適用于不同實驗需求。

von Hamos 譜儀采用柱面晶體將X射線聚焦到探測器上，由于僅在一個維度聚焦，非常適合二維探測器的使用，能夠在較短的距離內(nèi)實現(xiàn)高分辨率成像，具備較高的分辨率和靈活性。通常用于需要高分辨率和緊湊幾何設計的實驗，尤其在配合二維探測器的情況下的表現(xiàn)。

Johann 譜儀則通過圓弧形晶體和幾何布局，在兩個維度上對X射線進行聚焦，能夠實現(xiàn)更大的收集角和更高的探測效率，適合需要大收集角和高探測效率的實驗，尤其在大面積探測中的表現(xiàn)。

上述兩種譜儀各有優(yōu)勢，實驗人員可根據(jù)實驗需求選擇合適的類型，或者將兩者結合使用，提升XES測量的精度和效率。JJ X-Ray可提供von Hamos譜儀、Johann譜儀及其組合的定制化設計。

von Hamos譜儀：JJ X-Ray提供常規(guī)的4×4晶體陣列設計，并可根據(jù)客戶需求靈活調整晶體數(shù)量和排列方式。此外，還可提供兼容真空或惰性氣氛的設計。每塊晶體由三個獨立驅動器調節(jié)俯仰角，晶體可根據(jù)需要快速更換。下表為常規(guī)設計譜儀的部分參數(shù)。

Johann譜儀：JJ X-Ray可提供1-7個晶體臺的常規(guī)配置，并可根據(jù)客戶需求提供具有更多晶體臺的設計方案。每個晶體具有4軸自由度，可根據(jù)實驗需求進行水平和豎直方向的平移，以及方位角和俯仰角的調整。

JJ X-Ray還可提供von Hamos譜儀與Johann譜儀結合的實驗站設計，滿足多樣化的實驗需求，并可根據(jù)客戶需求設計定制多軸樣品調節(jié)臺。

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